FOREO Очищающая маска для лица для жирной кожи Matte Maniac для UFO 6 Состав и ингредиенты
Состав
Нажмите строку — коротко, что это.
-
Вода Нормально Water
Основа состава. На этикетке: Water.
-
Растительный компонент Нормально Hamamelis Virginiana
Латинское имя растения в INCI. На этикетке: Hamamelis Virginiana, Charcoal powder.
-
Растительный экстракт Нормально Witch Hazel Extract
Растительный компонент; сила эффекта разная. На этикетке: Witch Hazel Extract, Chrysanthemum Morifolium Flower Extract, Centella Asiatica Extract, Saussurea Involucrata Extract.
-
Бутиленгликоль Обычно Butylene Glycol
Увлажнитель и растворитель в косметике. На этикетке: Butylene Glycol.
-
1,2-Гександиол Обычно 2-Hexanediol
Увлажнитель и мягкий консервант. На этикетке: 2-Hexanediol.
-
Метилпропандиол Обычно Methylpropanediol
Растворитель-увлажнитель. На этикетке: Methylpropanediol.
-
Полиакрилат натрия Обычно Sodium Polyacrylate
Загуститель, удерживает воду. На этикетке: Sodium Polyacrylate.
-
Аллантоин Нормально Allantoin
Успокаивает кожу. На этикетке: Allantoin.
-
Пантенол Нормально Panthenol
Провитамин B5, увлажняет. На этикетке: Panthenol.
-
Гидроксиацетофенон Обычно Hydroxyacetophenone
Антиоксидант и усилитель консервантов. На этикетке: Hydroxyacetophenone.
-
Хлорфенезин Обычно Chlorphenesin
Мягкий консервант. На этикетке: Chlorphenesin.
-
Отдушка Спорно Fragrance
Скрытая смесь, частый аллерген. На этикетке: Fragrance.
Текст этикетки
Water, Hamamelis Virginiana, Witch Hazel Extract, Butylene Glycol, 2-Hexanediol, Methylpropanediol, Charcoal powder, Chrysanthemum Morifolium Flower Extract, Centella Asiatica Extract, Saussurea Involucrata Extract, Sodium Polyacrylate, Allantoin, Panthenol, Hydroxyacetophenone, Chlorphenesin, Fragrance
Вопросы
Есть ли SLS в «FOREO Очищающая маска для лица»?
Нет, SLS нет.
Есть состав лучше?
Да. «ICON SKIN Очищающая маска для лица WOW» — балл 91.
Похожие с лучшим составом